供應(yīng)日本光弛2350鍍膜機(jī)

1.標(biāo)配參數(shù)：單槍、 離子源、 晶控、23公分的射頻源、 熱阻蒸、 頂部側(cè)部加熱、 兩個(gè)擴(kuò)散泵、一個(gè)螺絲泵、一個(gè)機(jī)械泵
2.用途：此真空鍍膜機(jī)是鍍制防污膜（as膜）及防反射膜+防污膜（af+as膜）型光學(xué)鍍膜機(jī)，應(yīng)用于鍍膜機(jī)等所配的觸摸屏。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。為了提高鍍層厚度的均勻性，運(yùn)動(dòng)模式的膜均勻性好，鍍層的臺(tái)階覆蓋性能好，承載能力大，可充分利用有效空間的真空鍍膜室，是一個(gè)運(yùn)動(dòng)的常用模式。排氣系統(tǒng)一般由機(jī)械泵，擴(kuò)散泵，管道和閥門組成。為了提高泵的流量，可以添加增壓器之間的機(jī)械泵和擴(kuò)散泵。因此，不僅在較短的時(shí)間內(nèi)低壓力以保證快速的工作循環(huán)的排氣系統(tǒng)，還需要確保氣體的蒸發(fā)源和蒸鍍工件表面產(chǎn)生快速的去除。蒸發(fā)系統(tǒng)包括電氣設(shè)備和加熱蒸發(fā)源蒸發(fā)源。電氣設(shè)備包括測(cè)量真空薄膜的厚度和控制
3.特征：磁密封驅(qū)動(dòng)的基板旋轉(zhuǎn)式可得到穩(wěn)定和均勻的膜厚分布
4.配備：配備rf離子源以提高膜的耐摩擦性；用于防污膜（as 膜）批量生產(chǎn)；防污膜（as 膜）批量生產(chǎn)。
5.性能：達(dá)到壓強(qiáng)7.0e-5pa以下
6.配置參數(shù)：
真空室 ф2350mm×h 1400mm
基板架 ф2200 mm
基板架轉(zhuǎn)速 20rpm
晶振式膜厚計(jì) 6點(diǎn)式⽔晶傳感器
蒸發(fā)源 電⼦槍1臺(tái)，熱阻蒸
達(dá)到壓強(qiáng) 7.0e-5pa 以下
排強(qiáng)時(shí)間 15分以下（壓強(qiáng)〜2.0×10-3 pa）
7.工作條件：
設(shè)備尺寸 約6300mm (w)×9000mm (d) ×4000mm (h)
電源 3相,200v,50/60hz,約80kva
水流量 220升/分以上
空氣壓力 0.5-0.7mpa
重量 約12000kg