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電磁屏蔽(emi)膜專用鍍膜設備是在手機、筆記本電腦、電話機,珠海高清車載攝像頭組件鍍膜生產商、dvd等電子產品塑膠外殼表面上鍍制電磁屏蔽(emi)薄膜的專用設備。該設備利用等離子體表面處理技術,珠海高清車載攝像頭組件鍍膜生產商,并采用真空蒸發和磁控濺射鍍膜工藝相結合,以真空蒸發鍍ag,珠海高清車載攝像頭組件鍍膜生產商、cu,以磁控濺射鍍ni/cr不銹鋼,可實現不同電阻要求的emi鍍膜.該設備其具有這些特點:生產效率,快速度達1分鐘/節拍;模組化設計,維護方便;鍍膜工藝成熟,成品率高;直流磁控濺射陰極可隨客戶要求選擇;真空系統由機械泵、羅茨泵、擴散泵組成。
現在許多電子設備都趨向小型微型化,這樣的變化也是的原件和敏感器件靠的更近。距離的縮小,也就說明電磁波傳播的路徑縮短,使得電磁之間的干擾機會和強度都增加了,也就是說小型化后則增加了元件相互之間干擾的敏感度,小型化設備因為可移動性強有現實的需求,所以人們需要解決電磁信號相互干擾(兼容性)問題。互聯網時代的,各種軟硬件之間得到發展,目前比較常用降低電磁干擾的閾值或者是通過鍍膜來解決電磁信號干擾的問題。總的來說,高速數字化的電路相比模擬電路會產生更多的干擾信號。
目前濺射鍍膜技術能分為二級濺射,偏壓濺射,三級或四級濺射,射頻濺射,磁控濺射,對向靶濺射,反應濺射和離子束濺射這幾類。濺射鍍膜技術使用范圍廣|泛,常用在制備金屬、合金、半導體、氧化物、絕緣介質,以及化合物半導體、碳化物、氮化物等材料的鍍膜。從上個世紀七十年代發展興起,到現在逐漸成熟和創新突破,使其在更多的方面得到運用。濺射鍍膜的優點是比較明顯使用,但是其缺|陷也是比較明顯的,如所需的建設設備復雜且需要高壓裝置配合;鍍膜的成型率低和需要氣體輝光放電下進行等等。

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