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電*較深的插放爐料，可以提高爐溫和擴大坩堝，為冶煉反應(yīng)充分進行，創(chuàng)造了必要的熱量條件。因此，使電*較深的插入爐料，是冶煉操作中的重要環(huán)節(jié)。
當(dāng)電*插入爐料較深時，熱量損失少，爐溫高，硅鐵粉批發(fā)，坩堝大，爐內(nèi)化學(xué)反應(yīng)速度快，硅鐵粉*，于是出鐵量多，單位電耗低。反之，電*插入爐料較淺時，刺火和塌料現(xiàn)象均較多，熱量損失大，爐溫低，反應(yīng)不能充分進行，因此，就不會有較好的技術(shù)經(jīng)濟指標(biāo)。
電*的插入深度，主要與冶煉品種和爐容量大小有關(guān)。
為什么要搗爐，如何搗爐？
搗爐是挑翻內(nèi)里粘結(jié)大塊的爐料和料面的燒結(jié)區(qū)，以增加料面的透氣性，擴大坩堝，租金爐內(nèi)化學(xué)反應(yīng)加快進行。
硅鐵冶煉時，硅石在高溫下仍具有很大的粘結(jié)性。如果不及時搗爐，影響透氣性，產(chǎn)生刺火，干過縮小，江蘇硅鐵粉，爐內(nèi)反應(yīng)速度和降遼速度均減慢等。顯而易見，搗爐是一項增加料面透氣性和擴大坩堝容積的重要操作。通常在出完鐵之后，硅鐵粉生產(chǎn)廠家，原則上要搗一次爐，如果爐況很好不必每次搗，可采用扎透眼的方法，改善料面的透氣性。
搗爐要求：搗爐速度要快，力求減少熱量損失。搗爐適應(yīng)將透氣性不好的區(qū)域全挑開，注意力求少*坩堝。
實際生產(chǎn)中硅鐵成分容易偏析，就是同一爐或同一錠模的硅鐵，其含硅量也不同，有時甚至相差很大，75硅鐵的偏析現(xiàn)象更為嚴重。硅鐵錠的上部、底部和四周的含硅量較高，中部含硅量較低，約差1～3%。為減少偏析使其成分比較均勻，75硅鐵采用深度低于100毫升淺錠的厚度不大于100毫米。
45硅鐵含硅量較低，偏析現(xiàn)象少，同時它的脆裂性大，如果用淺錠模澆注，冷凝后均成碎塊，脫模和入庫的損失很大。所以，45硅鐵采用深模澆注。
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