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電鍍原理簡單而言,就是在含有欲鍍金屬的鹽類溶液中,以被鍍基體金屬為陰*,通過電解作用,使鍍液中欲鍍金屬的陽離子在基體金屬表面沉積出來,形成鍍層。陰*上的電流密度不能過大,不能超過允許的上限值(不同的電鍍溶液在不同工藝條件下有著不同的陰*電流密度的上限值)。超過允許的上限值以后,由于陰*附近嚴重缺乏金屬離子的緣故,租電鍍廠,在陰*的和凸出處會產生形狀如樹枝的金屬鍍層、或者在整個陰*表面上產生形狀如海綿的疏松鍍層。
vcp:垂直連續電鍍,電路板使用的新型機臺,比傳統懸吊式電鍍品質更佳。塑料電鍍前,必須經過特殊的活化和敏化處理。保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層,改變基材表面性質或尺寸。電鍍需要一個向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零件(陰*)和陽*構成的電解裝置。其中電鍍液成分視鍍層不同而不同。
在陽*則發生與陰*完全相反的反應,即陽*界面上發生金屬m的溶解,釋放n個電子生成金屬離子mn 。a、電*電位。電鍍的要素:1.陰*:被鍍物,指各種接插件端子。2.陽*:若是可溶性陽*,則為欲鍍金屬。若是不可溶性陽*,大部分為(白金,氧化銥)。電鍍原理包含四個方面:電鍍液、電鍍反應、電*與反應原理、金屬的電沉積過程。金屬陽*與直流電源的正*聯結,陽*與陰均浸入鍍液中。
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