賽米萊德公司(圖)-金屬光刻膠廠家-金屬光刻膠

光刻膠分類
正性光刻膠和負(fù)性光刻膠
光刻膠可依據(jù)不同的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行分類。按照化學(xué)反應(yīng)和顯影的原理，金屬光刻膠，光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。如果顯影時(shí)未*部分溶解于顯影液，形成的圖形與掩膜版相反，金屬光刻膠廠家，稱為負(fù)性光刻膠;如果顯影時(shí)*部分溶解于顯影液，形成的圖形與掩膜版相同，稱為正性光刻膠。
在實(shí)際運(yùn)用過(guò)程中，金屬光刻膠供應(yīng)商，由于負(fù)性光刻膠在顯影時(shí)容易發(fā)生變形和膨脹的情況，一般情況下分辨率只能達(dá)到 2 微米，因此正性光刻膠的應(yīng)用更為廣泛。
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光刻膠可以分為哪幾類
光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理，可分負(fù)性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠。反之，對(duì)某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。
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微流控芯片硅片模具加工如何選擇光刻膠呢？
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一般來(lái)說(shuō)線寬的用正膠，線窄的用負(fù)膠，正性光刻膠比負(fù)性的精度要高，負(fù)膠顯影后圖形有漲縮，負(fù)性膠限制在2~3μm.，而正性膠的分辨力優(yōu)于0.5μm 導(dǎo)致影響精度，正性膠則無(wú)這方面的影響。雖然使用更薄的膠層厚度可以改善負(fù)性膠的分辨率，但是薄負(fù)性膠會(huì)影響。同種厚度的正負(fù)膠，在對(duì)于*濕法和腐蝕性方面負(fù)膠更勝一籌，正膠難以企及。
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